Electron beam lithography (EBL) là thuật ngữ chỉ công nghệ tạo
các chi tiết trên bề mặt (các phiến Si...) có kích thước và hình dạng
giống như thiết kế bằng cách sử dụng chùm điện tử có
năng lượng cao làm biến đổi các chất cản quang phủ trên bề mặt
phiến.
EBL là một công cụ phổ biến trong công nghệ nanô để tạo ra các
chi tiết, các linh kiện có kích thước nhỏ với độ chính xác cực cao.
Xin lỗi bạn không thể down load tài liệu này. Bạn có thể xem tài liệu trực tuyến trên website hoặc liên hệ thư viện trường để được hướng dẫn. Cảm ơn bạn đã sử dụng dịch vụ của chúng tôi.
Bạn vui lòng tham khảo thỏa thuận sử dụng của thư viện số.
- Xin lỗi, bạn khồng thể download tài liệu này. Bạn vui lòng liên hệ trực tiếp thư viện trường để được cấp lại tài khoản để download được tài liệu này.